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在氧化染色整個流程中，因（yīn）為（wéi）氧化工（gōng）藝原因造成染色不良是（shì）比較普遍（biàn）的。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致（zhì）是（shì）染色時獲得均勻一致顏色的前提和（hé）基（jī）礎，為獲得均勻一致的氧化膜，保證足夠的循環量（liàng），冷卻量，保（bǎo）證良好的（de）導（dǎo）電性是（shì）舉足輕（qīng）重的，此外就是氧化工藝的穩定性。氧化溫（wēn）度，控製在20℃左右，氧（yǎng）化槽液的溫度對（duì）染色（sè）的影響非（fēi）常顯著，過低的溫度致使氧化膜的膜（mó）孔致密，染色速度顯著減緩；溫度過高，氧化膜蔬鬆，容易粉化（huà），不利於染色的控製（zhì），氧化（huà）槽的溫差變化應在（zài）2℃以內為宜。硫酸濃度，控製在180—200g／l。稍高的硫酸濃度可促進氧化膜（mó）的溶解反應加快，利於孔隙（xì）的擴張，更易（yì）於染色；鋁離子濃度，控製在5—15 g／l。鋁離子小於（yú）5g／l，生成的氧化膜吸附能力降低，影響上色速度，鋁離子（zǐ）大於15g／l時，氧化膜的均勻性受到影響，容易出（chū）現不規則的膜層。
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